鍺氧化物回收預清洗模塊和方法。膠體鍺回收在一些實施例中,一種用于IC制造的方法包括從襯底表面去除氧化物材料,其中所述表面包括硅和鍺.去除氧化物材料包括將含鹵素預清洗材料沉積在含氧化硅表面上,鍺顆粒回收蒸餾出的含鹵素預清洗材料的一部分是與暴露表面上的硅。鈍化膜沉積在暴露的硅上. 鈍化膜可能含有氯氣。鍺多少錢一克鈍化膜可以防止硅表面受到化學污染而后蒸餾,后蒸餾的溫度可以高于早蒸餾的溫度。然后,使剩余物和鹵素的鈍化膜蒸餾-包含預清潔材料。然后可以將諸如導電材料的目標材料沉積在基板的表面上。
鍺基板包括硅和鍺在基板表面材料層)的存在可能會干擾基板工業用鍺廢料廢液回收表面上材料要求層的形成。例如,中間材料可能會在材料要求層的結構中引入增加數量的金屬鍺的價格缺陷處,和/或材料要求層的電性能可能會受到負面影響 能量。在一些實施例中,作為天然氧化物材料的中間材料可能會由于在集成電路制造過程中的含鍺ITO靶材回收過程階段將襯底暴露于氧氣和(例如,暴露于周圍在制造系統之間移動基板期間的空氣,和/或暴露于系統中(使系統中殘留的氧化劑)鍺棒回收并形成在基板的表面上。
使底面氧化物(例如二氧化硅和鍺氧化物)形成預清洗材料,部分包裹含鹵素和硅,廢舊鍺靶材回收其他部分含鹵素和鍺. 預清洗材料的形成和隨后的去除導致表面氧化物的去除,鍺錠回收至少在部分基材上留下高質量的無氧化物表面。
鈍化膜在蒸餾前形成,含有鹵素和部分鍺例如,鍺渣廢鍺回收可以是鈍化膜的前驅體在蒸餾前暴露于基板。在一些實施方案中,鈍化膜前驅體的流動可以從較低升華的蒸餾持續廢棄鍺塊回收到較高蒸餾溫度段的蒸餾完成應當理解,襯底溫度可以在硅質預清洗材料的蒸餾和鍺預清洗材料的蒸餾之間升高。廢棄鍺石板材回收在一些實施例中,在底層溫度達到鍺預清洗材料的升華溫度之前形成鈍化膜。鈍化薄膜和鍺可以在以后去除預清洗材料以提供預清洗的襯底表面。在一些實施例中,可以在用于制備鍺預清洗材料的工藝中去除鈍化膜。例如,可以將硅用于使鍺預清洗材料升華溫度,氯化鍺化合物回收其中這種加熱去除鍺預清洗材料和鈍化膜。
如果你懷疑你有任何含有鍺的廢料,那么在處理它之前一定要研究它的價值,因為你可能會扔掉很多錢。鍺是一種寶貴且不可再生的資源,回收是您可以幫助地球并收回部分費用的一種方式。
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