銦是在光學材料、光電子材料、化合物半導體、焊錫等各個領域有效使用的金屬，廣泛用作液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）等的電極材料原料。最近，但因為銦昂貴只是由包含的再生劑尋求銦, 廢物等銦可以再次使用。

由以下方法形成的 ito 薄膜銦-氧化錫(ITO)由于同時具有高導電性和可見光透過性，被應用于太陽能電池、液晶顯示器、觸摸屏、窗玻璃用途，并帶有防汗加熱膜等各種nesa涂層。

作為制作ito薄膜的方法，可以列舉濺射法、真空蒸鍍法、溶膠-凝膠法、附聚離子線束蒸鍍法、PLD等方法。其中，由于濺射法可以可在較低溫度下在大面積基板上制成低阻抗薄膜，因此在工業上得到廣泛應用。

在利用濺射法制作 ito 薄膜時，通常是燒結氧化混合物的 ITO 燒結體銦并且得到二氧化錫作為靶材，照射等離子體等并濺射ITO，從而在襯底上蒸發形成ITO薄膜。此時，濺射的ITO不會在襯底上產生不蒸發而分散在周圍的ITO，因此就尋求用鹽酸等酸分散的 ITO 溶解形成含有銦錫，回收銦和錫并再次從這種含有銦錫和制造ITO原料等。

因此，中和劑的選擇是最重要的，直接關系到其整體回收率的生產成本和銦。目前常用的中和劑有鋅粉、氧化粉和鋅粉、鋅鑄浮渣硅霜、煅燒等。鋅粉易產生砷化氫氣體，含量較重。銦在酸性含砷環境下存在安全隱患，鋅粉加工成本高。銦在氧化粉和鋅中，氧化粉和鋅的采購成本高。銦在鋅鑄浮渣硅霜中，會帶入大量的氯離子。銦在煅燒中，不僅將溶液中的大量雜質元素帶入，影響銦提取過程，和銦礦渣銦浸出率低。

一種非揮發性提取鋅、鐵的方法，銦從鋅鐵溶液中銦，主要工藝路線為：在鋅鐵溶液中銦氧化鋅和重銦→銦礦渣硫酸浸出→浸出液銦萃取→萃取液經重鐵后送回萃取、置換、電解等萃取系統返回浸出系統銦→萃余液，進一步重鋅。公開了一種氧壓萃取的方法銦來自有錢人銦煙塵，其主要工藝路線進行銦萃取、反萃取 濃縮銦→ 脫酒銦置換、鑄造、電解→萃余硫化物沉淀有價金屬后處理合格排放為富銦煙塵氧壓酸浸→滲濾液硫化除雜→除雜液。這些方法都實現了煙氣的綜合回收銦，但工藝過程繁瑣冗長，導致銦損失很大，而且銦回收率低，生產成本高，一直難以解決萃取過程中的乳化問題。

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