銦含金屬，包括混合銦含草酸作為沉淀劑的溶液，形成沉淀銦草酸鹽，通過(guò)固液分離回收沉淀物，將沉淀物溶解在酸中形成溶液，將鋁板插入溶液中，形成海綿銦通過(guò)用鋁替代，然后使海綿銦堿性鑄造，準(zhǔn)備一個(gè)銦含金屬。上述方法可適用于生產(chǎn)銦-含有金屬，作為起始材料，使用一種銦溶液通過(guò)溶解銦-通過(guò)回收獲得的含有材料銦在用酸等制造ITO薄膜的過(guò)程中分散，效率高，良率好。

  銦是在光學(xué)材料、光電子材料、化合物半導(dǎo)體、焊錫等各個(gè)領(lǐng)域有效使用的金屬，廣泛用作液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）等的電極材料原料。最近，但因?yàn)殂煱嘿F只是由包含的再生劑尋求銦, 廢物等銦可以再次使用。

  由以下方法形成的 ito 薄膜銦-氧化錫(ITO)由于同時(shí)具有高導(dǎo)電性和可見(jiàn)光透過(guò)性，被應(yīng)用于太陽(yáng)能電池、液晶顯示器、觸摸屏、窗玻璃用途，并帶有防汗加熱膜等各種nesa涂層。

  作為制作ito薄膜的方法，可以列舉濺射法、真空蒸鍍法、溶膠-凝膠法、附聚離子線束蒸鍍法、PLD等方法。其中，由于濺射法可以可在較低溫度下在大面積基板上制成低阻抗薄膜，因此在工業(yè)上得到廣泛應(yīng)用。

  在利用濺射法制作 ito 薄膜時(shí)，通常是燒結(jié)氧化混合物的 ITO 燒結(jié)體銦并且得到二氧化錫作為靶材，照射等離子體等并濺射ITO，從而在襯底上蒸發(fā)形成ITO薄膜。此時(shí)，濺射的ITO不會(huì)在襯底上產(chǎn)生不蒸發(fā)而分散在周圍的ITO，因此就尋求用鹽酸等酸分散的 ITO 溶解形成含有銦錫，回收銦和錫并再次從這種含有銦錫和制造ITO原料等。

  含有的鹽酸溶液銦用溶劑和萃取類型的萃取劑萃取，然后用稀酸進(jìn)行反萃取，得到的溶液為銦回收的取入電解，或者中和形成氫氧化物，再通過(guò)碳或氫還原或用硫酸溶解電解回收銦.

  銦含金屬，各種銦形成含有如 ITO 靶材的廢料并含有銦，用過(guò)的洗滌流等可能會(huì)包含銦可以制作銦含金屬有效地作為起始原料，并能抑制雜質(zhì)的締合，使銦-含有高純度的金屬銦.制造方法銦含金屬，該方法是通過(guò)將銦被制成銦- 含金屬銦，其中，該方法有草酸銦沉淀操作和回收沉淀操作，在草酸中銦沉淀操作，從而將混合在含有溶液中的草酸銦作為沉淀劑生成草酸銦拋出; 在里面回收沉淀操作，回收上述草酸銦通過(guò)固液分離排出。

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